制造半导体器件或IC的物理气相沉积装置HS编码 84862022
Physical vapour deposition apparatus for semiconductor devices or ICs
层级：8 位（中国税目）
下级子目（1 条）
| 编码 | 商品名称 | 最惠国 | 退税率 |
|---|---|---|---|
| 8486202200 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | 0% | 13% |
数据来源：中国海关进出口税则（HS2022 口径）。税率、监管条件与申报要素仅供参考， 实际报关以海关最新公布税则、归类决定及预裁定为准。